光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來(lái)大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工業(yè)的，以后才用于電子工業(yè)。光刻膠是一種有機(jī)化合物，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。
為了避免光刻膠線條的倒塌，線寬越小的光刻工藝，就要求光刻膠的厚度越薄。在20nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)，光刻膠的厚度已經(jīng)減少到了100nm左右。但是薄光刻膠不能有效的阻擋等離子體對(duì)襯底的刻蝕 。為此，研發(fā)了含Si的光刻膠，這種含Si光刻膠被旋涂在一層較厚的聚合物材料(常被稱作Underlayer)，其對(duì)光是不敏感的。曝光顯影后，利用氧等離子體刻蝕，把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到Underlayer上，在氧等離子體刻蝕條件下，含Si的光刻膠刻蝕速率遠(yuǎn)小于Underlayer，具有較高的刻蝕選擇性 。
在這種情況下，光刻膠的顆粒管控就顯得尤為重要。PMT-2在光刻膠應(yīng)用中一般常用0.06-0.2um和0.1-0.5um，這兩個(gè)檢測(cè)范圍。普洛帝測(cè)控給某院某部門提供了成套的光刻膠檢測(cè)系統(tǒng)。本系統(tǒng)已經(jīng)應(yīng)用到實(shí)際監(jiān)測(cè)中，并良好運(yùn)轉(zhuǎn)。
不溶性微粒檢查儀對(duì)大輸液的顆粒管控，遵循中國(guó)藥典2020版附錄C0903不溶性微粒檢查法的不溶性微粒檢查，同時(shí)可以進(jìn)行在線過(guò)程質(zhì)量控制和產(chǎn)品評(píng)價(jià)。
?近日，英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)顆粒計(jì)數(shù)事業(yè)部（不溶性微粒）宣布推出其在藥品檢測(cè)方面的新型PLD-601系列不溶性微粒檢測(cè)儀及配套自動(dòng)取樣系統(tǒng)（涵蓋試劑和耗材），PLD-601系列不溶性微粒檢測(cè)儀的推出是PULUODY落實(shí)其新品開(kāi)發(fā)計(jì)劃的標(biāo)志性里程碑，并且將公司液體顆粒檢測(cè)的應(yīng)用延伸到生命科學(xué)和醫(yī)藥檢測(cè)領(lǐng)域。
水中顆粒計(jì)數(shù)器,水中顆粒計(jì)數(shù)儀,在線顆粒計(jì)數(shù)儀,水中顆粒監(jiān)測(cè)儀
清劑產(chǎn)生液體顆粒污染主要原因及管控辦法清劑化學(xué)品雜質(zhì)來(lái)源主要由以下幾種方式引入：一是原料帶入。即需要凈化的原料本身的雜質(zhì)；二是外界引入。由于高純電子級(jí)酸多具有強(qiáng)腐蝕性,在實(shí)驗(yàn)和存貯過(guò)程中接觸的器皿如不銹鋼設(shè)備 、管道 、泵閥 、螺絲等，塑料設(shè)備和包裝存貯材料(往往含有增塑劑增強(qiáng)劑&
隨著科技和現(xiàn)代工業(yè)的進(jìn)步與發(fā)展，許多行業(yè)對(duì)工作 介質(zhì)(氣體和液體)以及生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度(污染度)檢 測(cè)提出了越來(lái)越高的要求。為了定量描述介質(zhì)的清潔程度， 世界上很多國(guó)家都制定了潔凈度檢測(cè)和控制標(biāo)準(zhǔn)，將介質(zhì) 中微小顆粒污染物的數(shù)量和粒徑大小作為衡量其潔凈度的 重要指標(biāo)。檢測(cè)液體介質(zhì)中顆粒的方法有很多，有間接通
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